Các loại khí ăn mòn thường dùng cho chất bán dẫn

Trong quy trình sản xuất chip, không chỉ cần các thiết bị hoặc vật liệu cốt lõi như máy in thạch bản, máy khắc, chất quang dẫn và tấm silicon mà còn cần một loại khí đặc biệt trong ngành gọi là khí điện tử. Là một trong những nguyên liệu thô thượng nguồn trong chuỗi công nghiệp, các loại khí điện tử đặc biệt tham gia vào nhiều liên kết khác nhau như ăn mòn, làm sạch, tăng trưởng epiticular và cấy ion. Chúng không thể thiếu trong toàn bộ ngành sản xuất chip nên được gọi là “máu” của chất bán dẫn.

Vì khí điện tử ảnh hưởng đến hiệu suất, khả năng tích hợp, hiệu suất và các chỉ số quan trọng khác của mạch tích hợp nên có yêu cầu cao về độ tinh khiết của khí điện tử. Do những khó khăn lớn trong quy trình, khí điện tử đã trở thành vật liệu lớn thứ hai và chi phí của nó chỉ đứng sau tấm silicon.

Khí ăn mòn thường được sử dụng cho chất bán dẫn

1. Khí florua:

lưu huỳnh hexaflorua(SF6)

Lưu huỳnh hexafluoride SF6 là một trong những loại khí florua được sử dụng phổ biến nhất trong quá trình khắc khô chất bán dẫn. Nó được đặc trưng bởi tính chọn lọc cao và tốc độ ăn mòn mạnh. Nó phù hợp để khắc các vật liệu có hằng số điện môi thấp như oxit silic, silicon florua, silicon nitride, v.v.

Tìm hiểu thêm về lưu huỳnh hexaflorua(SF6)>>

cacbon tetraflorua(CF4)

Carbon tetrafluorideis CF4 cũng được sử dụng trong các quy trình ăn mòn wafer khác nhau. CF4 hiện là khí khắc plasma được sử dụng rộng rãi nhất trong ngành vi điện tử. Nó có thể được sử dụng rộng rãi trong việc khắc các vật liệu màng mỏng như silicon, silicon dioxide, silicon nitride, thủy tinh phosphosilicate và vonfram, cũng như làm sạch bề mặt của các thiết bị điện tử và pin mặt trời. Nó cũng được sử dụng rộng rãi trong sản xuất công nghệ laser, cách nhiệt pha khí, làm lạnh ở nhiệt độ thấp, chất phát hiện rò rỉ, kiểm soát thái độ của tên lửa không gian và chất khử nhiễm trong sản xuất mạch in.

Tìm hiểu thêm về cacbon tetraflorua(CF4)>>

Nitơ Triflorua (NF3)

Khí Nitơ Trifluoride NF3 có tốc độ ăn mòn chậm nhất trong số các loại khí florua, nhưng có tính chọn lọc tốt. Nó hoạt động tốt khi các vật liệu khác nhau được cách ly với nhau và cũng thích hợp để khắc các vật liệu hữu cơ.

Tìm hiểu thêm về Nitơ Triflorua(NF3)>>

2. Khí oxit:

O2 là khí oxit phổ biến trong quá trình khắc khô chất bán dẫn và có thể được sử dụng để oxy hóa các oxit và vật liệu kim loại. O2 có tốc độ ăn mòn chậm nhưng tính chọn lọc mạnh nên thích hợp để ăn mòn hầu hết các vật liệu oxit.

H2O

H2O là một loại khí oxit có khả năng hồi phục tốt và có thể được sử dụng để khắc các chất quang dẫn cứng và nhựa hữu cơ. Tuy nhiên, khi trộn với khí florua sẽ ảnh hưởng đến độ chọn lọc của phản ứng.

N2O

N2O có thể được sử dụng để oxy hóa vật liệu kim loại và silicon đã hydro hóa. Tốc độ ăn mòn của nó nhanh hơn O2, nhưng độ chọn lọc của nó kém hơn O2.

Trên đây là các loại và đặc điểm của các loại khí thường được sử dụng trong khắc khô bán dẫn. Ứng dụng của họ trong quá trình khắc là rất quan trọng. Đối với các vật liệu khác nhau và mục đích khắc khác nhau, cần phải chọn loại khí thích hợp để ăn mòn.

Chúng tôilà chuyên nghiệpnhà cung cấp ETCHING GAS chuyên nghiệp, wchào mừng liên hệ với chúng tôi để biết thêm chi tiết!